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LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING ME

IT圈 admin 26浏览 0评论

2024年3月11日发(作者:姚雅昶)

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE

MANUFACTURING METHOD

发明人:MARCO COELHO STAUFEN,マルコ コエルト

シュタフェンガ,JACOBS JOHANNES

HENRICUS WILHELMUS,ヨハネス ヘンリクス

ヴィルヘルムス ヤコブス,JANSEN HANS,ハンス

ヤンセン,VERHAGEN MARTINUS CORNELIS

MARIA,マルティヌス コーネリス マリア フェル

ハーゲン

申请号:JP2012083578

申请日:20120402

公开号:JP2012147015A

公开日:20120802

专利附图:

摘要:Array

申请人:ASML NETHERLANDS BV,エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

地址:オランダ国 ヴェルトホーフェン 5504 ディー アール,デ ラン 6501

国籍:NL

代理人:森下 賢樹

更多信息请下载全文后查看

2024年3月11日发(作者:姚雅昶)

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE

MANUFACTURING METHOD

发明人:MARCO COELHO STAUFEN,マルコ コエルト

シュタフェンガ,JACOBS JOHANNES

HENRICUS WILHELMUS,ヨハネス ヘンリクス

ヴィルヘルムス ヤコブス,JANSEN HANS,ハンス

ヤンセン,VERHAGEN MARTINUS CORNELIS

MARIA,マルティヌス コーネリス マリア フェル

ハーゲン

申请号:JP2012083578

申请日:20120402

公开号:JP2012147015A

公开日:20120802

专利附图:

摘要:Array

申请人:ASML NETHERLANDS BV,エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

地址:オランダ国 ヴェルトホーフェン 5504 ディー アール,デ ラン 6501

国籍:NL

代理人:森下 賢樹

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