2024年3月23日发(作者：咸映秋)
光刻机的若干知识点
光刻机（英语：Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键
设备。可以分为两种，分别是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶
圆；以及利用短波长激光和类似投影机原理的步进式光刻机（英语：stepper）或扫描式光
刻机（英语：scanner），获得比模板更小的曝光图样。
指甲盖大小的芯片，密布千万电线，纹丝不乱，需要极端精准的照相机——光刻机。
光刻机精度，决定了芯片的上限。高精度光刻机产自ASML、尼康和佳能三家；顶级光刻
机由ASML垄断。
生产集成电路的简要步骤：
利用模版去除晶圆表面的保护膜。
将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。
用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。
其中曝光机就是利用紫外线波长的准分子激光通过模版去除晶圆表面的保护膜的设
备。
一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版曝光机分为两种：
模版和晶圆大小一样，模版不动。
模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。
其中模版随曝光机移动的方式，模版相对曝光机中心位置不变，始终利用聚焦镜头中
心部分能得到更高的精度。成为目前的主流。
主要厂商
曝光机是生产大规模集成电路的核心设备，其制造和维护均需要先进和强大的光学及
电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握这种基础。因此曝光机价格昂贵，通常在 3 千万
至 5 亿美元。
ASML
尼康
佳能
SUSS
ABM, Inc.
上海微电子装备
厂家介绍：
1）艾司摩尔（ASML）
2024年3月23日发(作者：咸映秋)
光刻机的若干知识点
光刻机（英语：Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键
设备。可以分为两种，分别是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶
圆；以及利用短波长激光和类似投影机原理的步进式光刻机（英语：stepper）或扫描式光
刻机（英语：scanner），获得比模板更小的曝光图样。
指甲盖大小的芯片，密布千万电线，纹丝不乱，需要极端精准的照相机——光刻机。
光刻机精度，决定了芯片的上限。高精度光刻机产自ASML、尼康和佳能三家；顶级光刻
机由ASML垄断。
生产集成电路的简要步骤：
利用模版去除晶圆表面的保护膜。
将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。
用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。
其中曝光机就是利用紫外线波长的准分子激光通过模版去除晶圆表面的保护膜的设
备。
一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版曝光机分为两种：
模版和晶圆大小一样，模版不动。
模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。
其中模版随曝光机移动的方式，模版相对曝光机中心位置不变，始终利用聚焦镜头中
心部分能得到更高的精度。成为目前的主流。
主要厂商
曝光机是生产大规模集成电路的核心设备，其制造和维护均需要先进和强大的光学及
电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握这种基础。因此曝光机价格昂贵，通常在 3 千万
至 5 亿美元。
ASML
尼康
佳能
SUSS
ABM, Inc.
上海微电子装备
厂家介绍：
1）艾司摩尔（ASML）