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LSI推出业界首款PCIe3.0接口的PCIe闪存卡

IT圈 admin 18浏览 0评论

2024年5月19日发(作者:穰幼珊)

巾国集成电路 

China Integrated Circuit 

业界要闻— 

计,并且利用罗姆独家的模具技术采用了非球面透 

镜,从而实现了非球面透镜的面贴装LED产品中的 

备上,推出一套最新缺陷检测及分类技术,该设备的 

缺陷分析系统结合前所未有高分辨率、多维影像分 

析功能,及革命性创新的Purity自动化缺陷分类 

(ADC)系统高智能的机器学习算法,同时为半导体 

业界最小级别2924尺寸。由于改善了散热特性,体 

积虽小却可实现高输出功率。按照与以往产品同等 

亮度进行设计时,还可实现更低耗电量。(来自罗姆 

产业引进首创缺陷检测扫瞄电子显微镜(DR SEM) 

半导体) 

DAS研发出面向湿式蚀刻清洗工艺的 

新型使用端有害气体清除系统 

位于德国德累斯顿的DAS Environmental Expert 

公司是半导体行业废气处理企业,该企业研发出名 

为SALIX的新型系统。SALIX是一种有害气体清除 

系统,主要针对湿式蚀刻清洗台应用。SALIX利用化 

学和物理吸附的两阶段洗涤流程,在其源头从气流 

中直接清除有害物质。借助分离式出风口,有害气 

体从湿式蚀刻清洗台的加工腔室进入预洗涤器,后 

者通过使用喷嘴对气体进行预清洁。从这里开始, 

废气进入首个洗涤阶段,随后才是第二阶段,并采用 

完全不同的洗涤液。由于没有任何技术或环境威胁, 

剩下的干净空气可以直接排人空气中。 

借助使用端清除技术,SALIX能够有效防止其 

排气管发生堵塞。该系统不需要任何稀释空气,因 

此精心制备的干净空气会依然留在净室之中,以进 

步降低成本。(来自DAS公司) 

应用材料新检测设备支持1 Onm 

应用材料宣布推出新世代的缺陷检测及分类技 

术,加速达成lOnm及以下的顶尖芯片生产良率。 

SEMVision G6系统独特的多维影像分析功能为半 

导体制造提供最高分辨率及影像质量,先进的系统 

设计与全自主式功能,能提高100%更快速的产 

出。 

包括台积电、英特尔等半导体大厂,已经展开 

10nm的研发作业,应用材料在其SEMVision系列设 

http:#www.cicmag.corn 

技术。 

SEMVision G6系统设备的分辨率,相较于前一 

款提高了30%,为业界最高。这项能力与其独特的 

电子光束倾角,使其优异并且经过实地应用验证的 

缺陷检测扫描电子显微镜能够辨别、分析及发现3D 

鳍式场效晶体管(FinFET)及lOnm制程高深宽比 

结构的缺陷。(来自应用材料) 

A ll egro公司推出 

全新1 O通道LED汽车驱动器 

Allegro MicroSystems公司宣布推出适用于LCD 

背光、仪表板和白天行驶灯的全新可编程多输出 

LED驱动器。Allegro的A8517整合了带内置电源开 

关的电流型升压稳压器和10个IC可编程电流吸收 

器,在200 Hz时可提供5,000:1的对比率PWM调 

光。Ic的工作电压范围为4.5至36伏,可以承受汽 

车系统中出现的高达40伏的甩负荷。 

I2C接口允许用户单独设置LED电流,每LED 

通道高达60 mA。相邻的通道可以组合在一起,以驱 

动更高电流的LED串。PWM调光占空比可针对每 

个LED通道单独控制,如需要可以独立启用/禁用 

各个通道。(来自Allegro公司) 

LS I推出业界首款 

PC I e 3.0接口的PC I e闪存卡 

LSI公司日前宣布,其LSI PCIe闪存适配器LSI 

Nytro产品组合又添新成员,即3.2TB高容量Nytro 

WarpDrive加速卡,同时整个Nytro MegaRAID产品 

系列的容量、连接功能和软件功能均有新发展。新产 

L一业界要闻 

品使业界最为全面的PCIe闪存适配器产品得到进 

巾国集成电路 

China Integrated Circuit 

和电学变量优化。该流程既解决了随机和系统良率 

问题,又为客户的28nm设计提供另一种成熟的制 步丰富,便于客户选择最理想的解决方案,针对性 

地解决各种企业应用和数据中心工作负载带来的挑 

造流程。通过与联华电子的合作开发,这些新的流 

战。 

采用LSI Nytro产品,可为大数据应用、超大规 

模web、云数据中心、金融服务及虚拟桌面和服务器 

工作负载等提供所需的超低延迟和高带宽性能。 

LSI Nytro也有助于客户缩小其整体存储空间占用, 

降低其功耗需求,从而提升数据中心效率,并减少 

IT成本。(来自LSI公司) 

爱特梅尔推出全新符合汽车要求的 

maXTouch控制器系列 

爱特梅尔公司宣布提供全新maXTouch ̄控制 

器系列,在汽车中控台(automotive center stack)、导 

航系统、无线接口或后座娱乐系统中实现单层 

(single—layer)无屏蔽设计。Atmel mXT336S控制器 

针对7英寸触摸屏而优化,mXT224S则瞄准更小的 

触摸屏和触控板。 

新型mXT336S和mXT224S器件进一步增强了 

爱特梅尔作为市场领先的触摸产品供应商的地位, 

提供maXTouch器件来支持消费、工业和汽车应用。 

新的触摸器件符合AEC—Q100标准,并且完全符合 

汽车品质要求。全新mXT336S和mXT224S器件具 

有出色的性能、多点触控、更快的响应时间、更精确 

的触摸、稳健的运行和更低的功耗,它们还提供了满 

足当前汽车设计需求的专用嵌入功能性。(来自爱 

特梅尔) 

联华电子28nm节点采用Cadence物理 

和电学制造性设计签收解决方案 

Cadence日前宣布,历经广泛的基准测试后,联 

华电子已采用Cadence ̄“设计内”和“签收”可制 

造性设计(DFM)流程对28nm设计进行物理签收 

程整合了业界领先的DFM预防、分析和签收能力, 

包括Cadence光刻物理分析器(LPA)、Cadence模 

板分析、Cadence光刻电学分析器(LEA)和Cadence 

化学机械抛光预测(CCP)技术。 

对于28nm和以后产品,关键在于精准预测和 

自动修复DFM“热点”加速产出时间。联华电子人 

列不断增长的领先制造厂商队伍,以Cadence DFM 

解决方案为标准,为客户提高生产率和良率。DFM 

签收技术紧密地融人到Encounter@数字和 

Cadence Virtuoso ̄定制/模拟实现和签收解决方案 

中。该解决方案为客户提供了“设计纠正”能力,可 

对光刻、CMP和版图相关效应的物理和参数影响进 

行建模和分析,然后优化实现过程以弥补设计中的 

物理和电学变量,使用户达到量产的目标。(来自 

Cadence) 

Cadence与台积电扩大在 

V i rtuoso定制设计平台的合作 

为专注于解决先进节点设计的日益复杂性, 

Cadence设计系统公司日前宣布,已与台积电在 

Virtuoso定制和模拟设计平台扩大合作以设计和验 

证其尖端IP。此外,台积电还将扩展其本质为基于 

SKILL语言的的工艺流程设计套件(PDKs)产品至 

16nm,创建并交付全面合格并高品质的本质为基于 

SKILL语言的的PDKs,可实现Vitruoso平台所有的 

顶尖功能。为充分发挥最大性能和高品质成果,新 

PDKs可驱动Vitruoso 12.1平台中的尖端特性,例如 

自动对齐、在邻接过程中自动处理复杂的规则、链接 

器件、支持色彩感知版图设计和先进布线。 

“我们将继续加大投资升级Virtuoso平台以解 

决与日俱增的设计挑战。我们与台积电和客户紧密 

协作以加强和实现高级节点和主流设计的要求,” 

Cadence硅实现集团研发高级副总栽徐季平博士表 

h ̄p://www.cicmag.com 

2024年5月19日发(作者:穰幼珊)

巾国集成电路 

China Integrated Circuit 

业界要闻— 

计,并且利用罗姆独家的模具技术采用了非球面透 

镜,从而实现了非球面透镜的面贴装LED产品中的 

备上,推出一套最新缺陷检测及分类技术,该设备的 

缺陷分析系统结合前所未有高分辨率、多维影像分 

析功能,及革命性创新的Purity自动化缺陷分类 

(ADC)系统高智能的机器学习算法,同时为半导体 

业界最小级别2924尺寸。由于改善了散热特性,体 

积虽小却可实现高输出功率。按照与以往产品同等 

亮度进行设计时,还可实现更低耗电量。(来自罗姆 

产业引进首创缺陷检测扫瞄电子显微镜(DR SEM) 

半导体) 

DAS研发出面向湿式蚀刻清洗工艺的 

新型使用端有害气体清除系统 

位于德国德累斯顿的DAS Environmental Expert 

公司是半导体行业废气处理企业,该企业研发出名 

为SALIX的新型系统。SALIX是一种有害气体清除 

系统,主要针对湿式蚀刻清洗台应用。SALIX利用化 

学和物理吸附的两阶段洗涤流程,在其源头从气流 

中直接清除有害物质。借助分离式出风口,有害气 

体从湿式蚀刻清洗台的加工腔室进入预洗涤器,后 

者通过使用喷嘴对气体进行预清洁。从这里开始, 

废气进入首个洗涤阶段,随后才是第二阶段,并采用 

完全不同的洗涤液。由于没有任何技术或环境威胁, 

剩下的干净空气可以直接排人空气中。 

借助使用端清除技术,SALIX能够有效防止其 

排气管发生堵塞。该系统不需要任何稀释空气,因 

此精心制备的干净空气会依然留在净室之中,以进 

步降低成本。(来自DAS公司) 

应用材料新检测设备支持1 Onm 

应用材料宣布推出新世代的缺陷检测及分类技 

术,加速达成lOnm及以下的顶尖芯片生产良率。 

SEMVision G6系统独特的多维影像分析功能为半 

导体制造提供最高分辨率及影像质量,先进的系统 

设计与全自主式功能,能提高100%更快速的产 

出。 

包括台积电、英特尔等半导体大厂,已经展开 

10nm的研发作业,应用材料在其SEMVision系列设 

http:#www.cicmag.corn 

技术。 

SEMVision G6系统设备的分辨率,相较于前一 

款提高了30%,为业界最高。这项能力与其独特的 

电子光束倾角,使其优异并且经过实地应用验证的 

缺陷检测扫描电子显微镜能够辨别、分析及发现3D 

鳍式场效晶体管(FinFET)及lOnm制程高深宽比 

结构的缺陷。(来自应用材料) 

A ll egro公司推出 

全新1 O通道LED汽车驱动器 

Allegro MicroSystems公司宣布推出适用于LCD 

背光、仪表板和白天行驶灯的全新可编程多输出 

LED驱动器。Allegro的A8517整合了带内置电源开 

关的电流型升压稳压器和10个IC可编程电流吸收 

器,在200 Hz时可提供5,000:1的对比率PWM调 

光。Ic的工作电压范围为4.5至36伏,可以承受汽 

车系统中出现的高达40伏的甩负荷。 

I2C接口允许用户单独设置LED电流,每LED 

通道高达60 mA。相邻的通道可以组合在一起,以驱 

动更高电流的LED串。PWM调光占空比可针对每 

个LED通道单独控制,如需要可以独立启用/禁用 

各个通道。(来自Allegro公司) 

LS I推出业界首款 

PC I e 3.0接口的PC I e闪存卡 

LSI公司日前宣布,其LSI PCIe闪存适配器LSI 

Nytro产品组合又添新成员,即3.2TB高容量Nytro 

WarpDrive加速卡,同时整个Nytro MegaRAID产品 

系列的容量、连接功能和软件功能均有新发展。新产 

L一业界要闻 

品使业界最为全面的PCIe闪存适配器产品得到进 

巾国集成电路 

China Integrated Circuit 

和电学变量优化。该流程既解决了随机和系统良率 

问题,又为客户的28nm设计提供另一种成熟的制 步丰富,便于客户选择最理想的解决方案,针对性 

地解决各种企业应用和数据中心工作负载带来的挑 

造流程。通过与联华电子的合作开发,这些新的流 

战。 

采用LSI Nytro产品,可为大数据应用、超大规 

模web、云数据中心、金融服务及虚拟桌面和服务器 

工作负载等提供所需的超低延迟和高带宽性能。 

LSI Nytro也有助于客户缩小其整体存储空间占用, 

降低其功耗需求,从而提升数据中心效率,并减少 

IT成本。(来自LSI公司) 

爱特梅尔推出全新符合汽车要求的 

maXTouch控制器系列 

爱特梅尔公司宣布提供全新maXTouch ̄控制 

器系列,在汽车中控台(automotive center stack)、导 

航系统、无线接口或后座娱乐系统中实现单层 

(single—layer)无屏蔽设计。Atmel mXT336S控制器 

针对7英寸触摸屏而优化,mXT224S则瞄准更小的 

触摸屏和触控板。 

新型mXT336S和mXT224S器件进一步增强了 

爱特梅尔作为市场领先的触摸产品供应商的地位, 

提供maXTouch器件来支持消费、工业和汽车应用。 

新的触摸器件符合AEC—Q100标准,并且完全符合 

汽车品质要求。全新mXT336S和mXT224S器件具 

有出色的性能、多点触控、更快的响应时间、更精确 

的触摸、稳健的运行和更低的功耗,它们还提供了满 

足当前汽车设计需求的专用嵌入功能性。(来自爱 

特梅尔) 

联华电子28nm节点采用Cadence物理 

和电学制造性设计签收解决方案 

Cadence日前宣布,历经广泛的基准测试后,联 

华电子已采用Cadence ̄“设计内”和“签收”可制 

造性设计(DFM)流程对28nm设计进行物理签收 

程整合了业界领先的DFM预防、分析和签收能力, 

包括Cadence光刻物理分析器(LPA)、Cadence模 

板分析、Cadence光刻电学分析器(LEA)和Cadence 

化学机械抛光预测(CCP)技术。 

对于28nm和以后产品,关键在于精准预测和 

自动修复DFM“热点”加速产出时间。联华电子人 

列不断增长的领先制造厂商队伍,以Cadence DFM 

解决方案为标准,为客户提高生产率和良率。DFM 

签收技术紧密地融人到Encounter@数字和 

Cadence Virtuoso ̄定制/模拟实现和签收解决方案 

中。该解决方案为客户提供了“设计纠正”能力,可 

对光刻、CMP和版图相关效应的物理和参数影响进 

行建模和分析,然后优化实现过程以弥补设计中的 

物理和电学变量,使用户达到量产的目标。(来自 

Cadence) 

Cadence与台积电扩大在 

V i rtuoso定制设计平台的合作 

为专注于解决先进节点设计的日益复杂性, 

Cadence设计系统公司日前宣布,已与台积电在 

Virtuoso定制和模拟设计平台扩大合作以设计和验 

证其尖端IP。此外,台积电还将扩展其本质为基于 

SKILL语言的的工艺流程设计套件(PDKs)产品至 

16nm,创建并交付全面合格并高品质的本质为基于 

SKILL语言的的PDKs,可实现Vitruoso平台所有的 

顶尖功能。为充分发挥最大性能和高品质成果,新 

PDKs可驱动Vitruoso 12.1平台中的尖端特性,例如 

自动对齐、在邻接过程中自动处理复杂的规则、链接 

器件、支持色彩感知版图设计和先进布线。 

“我们将继续加大投资升级Virtuoso平台以解 

决与日俱增的设计挑战。我们与台积电和客户紧密 

协作以加强和实现高级节点和主流设计的要求,” 

Cadence硅实现集团研发高级副总栽徐季平博士表 

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