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CCD常用知识总结

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2024年5月11日发(作者:呼浩歌)

CCD 常用知识总结

随着CCD的不断发展,尤其典型的是当微光CCD向低照度方向发展时,噪声已经成为

阻碍CCD进一步发展的障碍。噪声是CCD的一个重要参数,它是决定信噪比S/N

(Singal/Noise)的重要因素,而同时信噪比又是各种数据参数中最重要的指标之一。随着

CCD器件向小型化、集成化的不断发展,CCD光敏元数的增加势必减小光敏元的面积,从

而降低了CCD的输出饱和信号。为扩大CCD的动态范围,就必须降低CCD的噪声(动态

范围与噪声间的联系)。

CCD工作时,在输入结构、输出结构、信号电荷存储和转移过程中都会产生噪声。噪声

叠加在信号电荷上,形成对信号的干扰,降低了信号电荷包所代表的信息复原后的精度,并

且限制了信号电荷包的最小值。CCD图像传感器的输出信号是空间采样的离散模拟信号,

其中夹杂着各种噪声和干扰。CCD输出信号处理的目的是在不损失图像细节并保证在CCD

动态范围内,图像信号随目标亮度线形变化是尽可能消除这些噪声和干扰。(选自《CCD降

噪技术的研究》燕山大学工学硕士学位论文)

CCD的发展现状

CCD最初是1969年由美国贝尔实验室的两名科学家与提出,1970

年在贝尔实验室制造成功。它一问世,就显示出灵敏度高、光谱响应范围大、操作容易、维

护方便、成本低、易推广等一系列优点,因而受到人们的普遍重视,现已取代摄像管,成为

一种最常见的图像传感器。自CCD问世以来,特别是近几年来,一直为美、日、英、法、

德、荷兰等工业发达国家所瞩目,其中美、日两国的研制与生产能力居于世界领先地位。国

外主要的CCD研制与生产单位有日本的电气、东芝、索尼、夏普、日立,美国德州仪器,

荷兰飞利浦等。二十年来,CCD向着高集成度、高灵敏度、高分辨率、宽光谱响应的方向

迅速发展,不断完善。目前国外已研制出了像素数目为9K×9K的CCD芯片,像素尺寸最小

已达到2.4μm×2.4μm;像素数目为4K×4K的CCD芯片已达到商业化水平。另外CCD芯片

的拼接技术也日益成熟。国内对CCD的研究始于1967年,主要研制单位重庆光电技术研究

所、河北半导体研究所等,已经取得了一定的成绩,但研制水平和国外有一段距离,比发达

国家落后近十年。尤其受国内微电子加工技术的限制,生产能力较低,其产量远不能满足国

内需求。(《CCD尺寸测量装置的研制》东北大学硕士论文)

目前国内对于CCD参数能够进行标定的单位:北京天文台的

CCD工作原理:

CCD工作时通过转换光为电子(电荷),这个过程如下:高能光子(可见光或红外范围)

撞击硅,并激发硅内电子进入更高能级,这样产生电子空穴对。电荷被收集到单个像素上,

然后通过在垂直和水平寄存器上施加不同的电压进行电荷转移,这些电荷被数字化和编码。

这个过程所需时间依赖系统输出流量。图像质量依赖于采样。

关于CCD的集中控制采集方案调研:

对于CCD的集中图像采集系统目前在我们星光神光实验中,规划的集中采集方式有两种。

1 基于软件的CCD图像采集网络式集中控制

2 基于硬件的单机集中控制

其相应的拓扑系统图见神光Ⅲ概念设计报告,杨存榜的方案有两种方案优劣的比较。

CCD及检测中基本知识点

CCD(电荷耦合器件)突出特点以电荷作为信号,基本功能是电荷的存储和电荷的转移,

工作的主要问题是信号电荷的产生、存储、传输和检测。

CCD两种基本类型,一是电荷包存储在半导体与绝缘体之间的界面,并沿界面传输,这类

器件称为表面沟道CCD(SCCD);二是电荷包存储在离半导体表面一定深度的体内,并在

半导体体内沿一定方向传输,这类器件称为体沟道或埋沟道CCD(BCCD).

探测x、γ射线的面阵CCD,x、γ射线为电磁辐射,可以直接照射CCD,入射光子与Si

原子的内壳层电子相互作用,对Si材料每激发一对电子—空穴对需3.65ev的能量,为滤除

可见光对测量的干扰,在CCD表面用铝化聚脂膜或薄铍窗作遮挡材料,可实现对X,γ射

线测量的初步要求。根据射线能量和探测要求不同,可制成几种结构的CCD探测器。

1直接照射型。 2 通过闪烁/磷光体转换探测型。 3闪烁/磷光体的发光用光学透镜或

光导纤维传输,耦合与CCD探测。4闪烁/磷光体耦合在像增强器或微通道板作预储存放大,

再经光学传输与CCD耦合。

CCD在可见光和x光成像中的应用:

★ 在

x光成像中:

CCD可以对x射线成像。x射线入射到CCD光敏单元可在单元势阱内产生载流

子,从而测量x射线空间强度分布。由于x射线能量较高,其中一部分会穿过

CCD而探测不到,因而CCD对x射线的探测率远远低于可见光。另外在x射线

照射下存在CCD的辐射损伤问题,例如:对于10kev的x射线,ccd的工作寿

命只有几个小时。用CCD对x射线成像的一个有效办法是将x射线在荧光屏上

转换为可见光,再用CCD对可见光成像。如果x射线光强不够,可通过像增强

器放大在由CCD读出。

★ 色温的有关概念

色温 是借用绝对黑体绝对温度描述一般光源发光特征的一个参数,光源的色

温是指与光源发出辐射颜色相同的黑体的绝对温度,如光源本身就是绝对黑体,

色温就是光源本身的绝对温度。若光源本身不是绝对黑体,色温只表示光源发光

的颜色特征,不代表光源本身的实际温度。

CCD实践中应用知识

x光CCD面阵的前面放置铍窗,其功能是实现x光能量的衰减。(注意牵涉抽真空系统)

1) 对于CCD而言,面阵上采集图像如下图: 图中圆形区域为采集的灰度表示:a b c 为

灰度不同的采集的几个区域能否在a,c区域间进行灰度的加减运算?

答:目前软件本身提供的功能不能,CCD软件所提供的功

a

能全都体现出来了。本软件的最主要就是实现控制箱的控制

b

和图像的采集。对于更进一步的运算可以采用软件固有的转

换功能,将图像转换为ASCII码来在进行运算。或者在利

c

用专门的图像处理软件来对已经采到的图像来处理。

对于一台CCD而言,一旦厂家出厂以后其量子效率是不会改变的,除非仪器坏了。所

2024年5月11日发(作者:呼浩歌)

CCD 常用知识总结

随着CCD的不断发展,尤其典型的是当微光CCD向低照度方向发展时,噪声已经成为

阻碍CCD进一步发展的障碍。噪声是CCD的一个重要参数,它是决定信噪比S/N

(Singal/Noise)的重要因素,而同时信噪比又是各种数据参数中最重要的指标之一。随着

CCD器件向小型化、集成化的不断发展,CCD光敏元数的增加势必减小光敏元的面积,从

而降低了CCD的输出饱和信号。为扩大CCD的动态范围,就必须降低CCD的噪声(动态

范围与噪声间的联系)。

CCD工作时,在输入结构、输出结构、信号电荷存储和转移过程中都会产生噪声。噪声

叠加在信号电荷上,形成对信号的干扰,降低了信号电荷包所代表的信息复原后的精度,并

且限制了信号电荷包的最小值。CCD图像传感器的输出信号是空间采样的离散模拟信号,

其中夹杂着各种噪声和干扰。CCD输出信号处理的目的是在不损失图像细节并保证在CCD

动态范围内,图像信号随目标亮度线形变化是尽可能消除这些噪声和干扰。(选自《CCD降

噪技术的研究》燕山大学工学硕士学位论文)

CCD的发展现状

CCD最初是1969年由美国贝尔实验室的两名科学家与提出,1970

年在贝尔实验室制造成功。它一问世,就显示出灵敏度高、光谱响应范围大、操作容易、维

护方便、成本低、易推广等一系列优点,因而受到人们的普遍重视,现已取代摄像管,成为

一种最常见的图像传感器。自CCD问世以来,特别是近几年来,一直为美、日、英、法、

德、荷兰等工业发达国家所瞩目,其中美、日两国的研制与生产能力居于世界领先地位。国

外主要的CCD研制与生产单位有日本的电气、东芝、索尼、夏普、日立,美国德州仪器,

荷兰飞利浦等。二十年来,CCD向着高集成度、高灵敏度、高分辨率、宽光谱响应的方向

迅速发展,不断完善。目前国外已研制出了像素数目为9K×9K的CCD芯片,像素尺寸最小

已达到2.4μm×2.4μm;像素数目为4K×4K的CCD芯片已达到商业化水平。另外CCD芯片

的拼接技术也日益成熟。国内对CCD的研究始于1967年,主要研制单位重庆光电技术研究

所、河北半导体研究所等,已经取得了一定的成绩,但研制水平和国外有一段距离,比发达

国家落后近十年。尤其受国内微电子加工技术的限制,生产能力较低,其产量远不能满足国

内需求。(《CCD尺寸测量装置的研制》东北大学硕士论文)

目前国内对于CCD参数能够进行标定的单位:北京天文台的

CCD工作原理:

CCD工作时通过转换光为电子(电荷),这个过程如下:高能光子(可见光或红外范围)

撞击硅,并激发硅内电子进入更高能级,这样产生电子空穴对。电荷被收集到单个像素上,

然后通过在垂直和水平寄存器上施加不同的电压进行电荷转移,这些电荷被数字化和编码。

这个过程所需时间依赖系统输出流量。图像质量依赖于采样。

关于CCD的集中控制采集方案调研:

对于CCD的集中图像采集系统目前在我们星光神光实验中,规划的集中采集方式有两种。

1 基于软件的CCD图像采集网络式集中控制

2 基于硬件的单机集中控制

其相应的拓扑系统图见神光Ⅲ概念设计报告,杨存榜的方案有两种方案优劣的比较。

CCD及检测中基本知识点

CCD(电荷耦合器件)突出特点以电荷作为信号,基本功能是电荷的存储和电荷的转移,

工作的主要问题是信号电荷的产生、存储、传输和检测。

CCD两种基本类型,一是电荷包存储在半导体与绝缘体之间的界面,并沿界面传输,这类

器件称为表面沟道CCD(SCCD);二是电荷包存储在离半导体表面一定深度的体内,并在

半导体体内沿一定方向传输,这类器件称为体沟道或埋沟道CCD(BCCD).

探测x、γ射线的面阵CCD,x、γ射线为电磁辐射,可以直接照射CCD,入射光子与Si

原子的内壳层电子相互作用,对Si材料每激发一对电子—空穴对需3.65ev的能量,为滤除

可见光对测量的干扰,在CCD表面用铝化聚脂膜或薄铍窗作遮挡材料,可实现对X,γ射

线测量的初步要求。根据射线能量和探测要求不同,可制成几种结构的CCD探测器。

1直接照射型。 2 通过闪烁/磷光体转换探测型。 3闪烁/磷光体的发光用光学透镜或

光导纤维传输,耦合与CCD探测。4闪烁/磷光体耦合在像增强器或微通道板作预储存放大,

再经光学传输与CCD耦合。

CCD在可见光和x光成像中的应用:

★ 在

x光成像中:

CCD可以对x射线成像。x射线入射到CCD光敏单元可在单元势阱内产生载流

子,从而测量x射线空间强度分布。由于x射线能量较高,其中一部分会穿过

CCD而探测不到,因而CCD对x射线的探测率远远低于可见光。另外在x射线

照射下存在CCD的辐射损伤问题,例如:对于10kev的x射线,ccd的工作寿

命只有几个小时。用CCD对x射线成像的一个有效办法是将x射线在荧光屏上

转换为可见光,再用CCD对可见光成像。如果x射线光强不够,可通过像增强

器放大在由CCD读出。

★ 色温的有关概念

色温 是借用绝对黑体绝对温度描述一般光源发光特征的一个参数,光源的色

温是指与光源发出辐射颜色相同的黑体的绝对温度,如光源本身就是绝对黑体,

色温就是光源本身的绝对温度。若光源本身不是绝对黑体,色温只表示光源发光

的颜色特征,不代表光源本身的实际温度。

CCD实践中应用知识

x光CCD面阵的前面放置铍窗,其功能是实现x光能量的衰减。(注意牵涉抽真空系统)

1) 对于CCD而言,面阵上采集图像如下图: 图中圆形区域为采集的灰度表示:a b c 为

灰度不同的采集的几个区域能否在a,c区域间进行灰度的加减运算?

答:目前软件本身提供的功能不能,CCD软件所提供的功

a

能全都体现出来了。本软件的最主要就是实现控制箱的控制

b

和图像的采集。对于更进一步的运算可以采用软件固有的转

换功能,将图像转换为ASCII码来在进行运算。或者在利

c

用专门的图像处理软件来对已经采到的图像来处理。

对于一台CCD而言,一旦厂家出厂以后其量子效率是不会改变的,除非仪器坏了。所

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