2024年4月20日发(作者：么雅可)

FAX MESSAGE

TO：乾朔

ATTN:李’R

C C:

Fax No：

From：力桥-孙秀明

Date：

Page：2/2

REF：

TOPIC：普通镍和高温镍添加剂变化哈氏片状况

李’R：

您好！首先感谢您和贵司一直以来对我们公司的支持，现将关于普通镍和高温镍添加

剂变化哈氏片状况相关报告整理如下：

(一)

說明:

普通镍和高温镍添加剂变化哈氏片状况

(二)

具体步骤如下:

哈氏片脱脂不干净(即前处理不良)

哈氏片 开缸条件

镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L

硼酸:35g/L

N500ADD:W=5:0.3ml/L

3A,7.6V,2min,55-60℃,空气搅拌

低区漏镀及白雾

1

1.普通镍N500开缸条件及哈氏片

哈氏片 开缸条件

镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L

硼酸:35g/L

3A,7.6V,2min,55-60℃,空气搅拌

镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L

硼酸:35g/L,N500W:0.3ml/L

N500ADD:1ml/L

3A,7.3V,2min,55-60℃,空气搅拌

镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L

硼酸:35g/L,N500W:0.3ml/L

N500ADD:5ml/L

3A,7.6V,2min,55-60℃,空气搅拌

镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L

硼酸:35g/L,N500W:0.3ml/L

N500ADD:10ml/L

3A,7.2V,2min,55-60℃,空气搅拌

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2024年4月20日发(作者：么雅可)

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您好！首先感谢您和贵司一直以来对我们公司的支持，现将关于普通镍和高温镍添加

剂变化哈氏片状况相关报告整理如下：

(一)

說明:

普通镍和高温镍添加剂变化哈氏片状况

(二)

具体步骤如下:

哈氏片脱脂不干净(即前处理不良)

哈氏片 开缸条件

镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L

硼酸:35g/L

N500ADD:W=5:0.3ml/L

3A,7.6V,2min,55-60℃,空气搅拌

低区漏镀及白雾

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1.普通镍N500开缸条件及哈氏片

哈氏片 开缸条件

镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L

硼酸:35g/L

3A,7.6V,2min,55-60℃,空气搅拌

镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L

硼酸:35g/L,N500W:0.3ml/L

N500ADD:1ml/L

3A,7.3V,2min,55-60℃,空气搅拌

镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L

硼酸:35g/L,N500W:0.3ml/L

N500ADD:5ml/L

3A,7.6V,2min,55-60℃,空气搅拌

镍离子:90g/L,氯化镍:10g/L

硼酸:35g/L,N500W:0.3ml/L

N500ADD:10ml/L

3A,7.2V,2min,55-60℃,空气搅拌

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