2024年5月13日发(作者:越璎玑)
电化学Fe掺杂增强FTO薄膜的可见光光电化学性能
肖仕清;郝丽华;谢萌阳;马荣伟;牛振江
【摘 要】通过在FeSO4溶液中将FTO(F掺杂SnO2)导电玻璃电化学阴极极化,随
后在500℃空气中热氧化,制备出对可见光有响应的Fe掺杂FTO薄膜.用扫描电子
显微镜(SEM),X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)表征了薄膜的形貌、结
构和表面特性.在可见光下测试了薄膜在1.0 mol/L NaOH溶液中零偏压下的光电
流-时间曲线.结果显示,电化学修饰后的FTO薄膜表面呈纳米多孔形貌,薄膜中有1%
(原子分数)左右的Fe元素掺杂且存在正交结构SnO2和四方结构SnO2两种物
相.Fe掺杂FTO的光电流密度为0.5 μA/cm2,比无Fe掺杂的FTO薄膜(0.019
μA/cm2)显著增强.%A visible-light-responsive Fe-doped FTO (F-doped
SnO2) thin film was prepared by cathodic polarization of FTO conductive
glass in a FeSO4 solution followed by thermal oxidation in air at 500 ℃.The
morphology,structure and surface composition of the thin film were
characterized by scanning electron microscopy (SEM),X-ray diffraction
(XRD) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).The photocurrent
curve of the thin film was measured in 1.0 mol/L NaOH solution
under visible light and zero results showed that the
electrochemically modified FTO thin film contains about 1.0at% of
Fe,comprises two structural phases of tetragonal and orthorhombic
SnO2,and presents a nanoporous photocurrent density of
the Fe-doped FTO thin film is 0.5 μA/cm2,which is significantly higher than
that of the undoped FTO thin film (0.019 μA/cm2).
【期刊名称】《电镀与涂饰》
【年(卷),期】2017(036)009
【总页数】8页(P455-461,后插1)
【关键词】氟掺杂二氧化锡;铁掺杂;阴极极化;可见光;光电流
【作 者】肖仕清;郝丽华;谢萌阳;马荣伟;牛振江
【作者单位】浙江师范大学物理化学研究所,浙江金华321004;浙江师范大学物理
化学研究所,浙江金华321004;浙江师范大学物理化学研究所,浙江金华321004;浙
江师范大学物理化学研究所,浙江金华321004;浙江师范大学物理化学研究所,浙江
金华321004
【正文语种】中 文
【中图分类】O611.4
从Fujishima等[1]的开创性工作开始,利用太阳能分解水或降解有机污染物,减
少化石燃料的消耗和解决紧迫的环境问题,已成为世界范围的研究热点。开发各种
高性能、低成本的光催化材料,是发展光催化技术的关键之一。
SnO2是n型半导体,在酸碱介质中性质稳定,但由于禁带宽度为3.6 eV,仅能
吸收太阳光谱的紫外部分,且其本征的光催化活性很低。通过金属离子(如Mg[2]、
V[3]、Zn[4-5]、W[4]、Cu[6]和Fe[7-10])的掺杂或与其他氧化物(如Fe2O3[11-
13]、ZnO[14])的复合,可以有效地提高SnO2材料的光催化性能。F掺杂的
SnO2(FTO)薄膜,已被广泛用作液晶显示屏和各种太阳能电池、电致变色材料的
基底,也被用作许多光电催化材料的导电层[15-18]。而经过强阴极极化处理[19-
20],能增强FTO薄膜的光电化学性能,使FTO薄膜能够直接用于光电催化反应。
本文通过在FeSO4溶液中对市售的FTO导电玻璃进行阴极极化,再经热氧化,制
备出具有较好光电化学性能的改性FTO薄膜,并通过结构、形貌和表面特性的分
析表征,讨论了电化学修饰增强FTO薄膜光电化学性能的机理。
1. 1 样品制备
以市售的FTO导电玻璃(深圳华南湘城科技有限公司,表面方阻为13 Ω)为基底,
依次用丙酮、无水乙醇超声清洗20 min,再经超纯水清洗后,放入0.1 mol/L
FeSO4+ 0.1 mol/L (NH4)2SO4电解液中,以Pt片为阳极,恒电流密度6
mA/cm2阴极极化350 s,两电极之间的距离固定为2.0 cm。电化学处理后清洗,
于空气气氛下500 °C恒温加热2 h,得到电化学修饰的FTO薄膜(F-FTO)。在
0.1 mol/L Na2SO4溶液中以相同电流密度阴极极化和相同热处理制备的FTO薄
膜(C-FTO)与直接进行热处理的薄膜(A-FTO)分别作为比较和空白样品。
1. 2 形貌、结构和光学特性表征
通过日本Hitachi S4800扫描电子显微镜(SEM)分析薄膜表面形貌。采用荷兰
PANalytical X’pert PRO X射线衍射仪(XRD)分析薄膜的结构。用英国
Renishaw inVia激光显微拉曼光谱仪进行拉曼光谱检测,激发波长为532 nm。
用美国Thermo Scientific公司的ESCALAB 250Xi型X射线光电子能谱仪(XPS)
分析样品元素的表面组成和化学状态,Al Kα射线(1 486.6 eV),以样品表面污染
碳(C─H或C─C)C1s的结合能284.8 eV为内标校正电子结合能。通过日本岛津
XRF-1800型X−荧光光谱仪(XRF)对样品进行元素定量分析。
1. 3 光电化学性能测试
以FTO薄膜(受光面积1.0 cm2)为工作电极,Pt片为对电极,采用两电极体系,
在1.0 mol/L NaOH溶液中测试样品在零偏压下的光电流−时间( j−t)曲线。实验
时每次光照50 s后闭光50 s为一次循环,同一样品经过5次循环以上的测试。所
用光源为Xe灯(北京纽比特科技有限公司),用紫外截止滤光片ZJB380滤去紫外
光部分,照射到样品表面的光强度为100 mW/cm2。
本文所有电化学实验均在室温下进行,所用仪器为CHI660C电化学工作站(上海辰
华),所用化学试剂均为分析纯,溶液用超纯水配制。
2. 1 薄膜的光电化学性能
图1为经过不同处理的FTO薄膜在零偏压下的j−t曲线。在可见光照射下,未经
过电化学阴极极化处理的FTO薄膜(A-FTO)基本没有产生光电流。而经过在
Na2SO4溶液中阴极极化处理的FTO薄膜(C-FTO)和在含FeSO4溶液中阴极极化
后的FTO薄膜(F-FTO)都产生了较明显的阳极光电流,显示出n型半导体的特性。
可见阴极极化显著增强了FTO的光电流,与文献的报道[19-20]一致。F-FTO的光
电流密度为0.5 μA/cm2,比C-FTO的光电流密度(1.85 × 10−2μA/cm2)大了近
26倍,表明在FeSO4溶液中阴极极化处理更能有效提高FTO薄膜的光电化学性
能。
碱性溶液中零偏压下的光电流测试结果表明,电化学改性和修饰能够显著增强
FTO薄膜在可见光下的光电化学性能。为了探讨电化学改性增强FTO薄膜光电化
学性能的机理,进一步对不同处理的FTO样品进行了形貌、结构和表面特性的分
析。
2. 2 FTO薄膜的形貌和结构
2. 2. 1 薄膜的形貌
图2为不同FTO薄膜的表面和截面形貌。从SEM分析结果可见,A-FTO为不规
则的亚微米颗粒形成的致密薄膜,厚度约为500 nm。C-FTO薄膜表面是由大小
不一的颗粒堆积成的多孔形貌,一些颗粒的尺寸明显增大,致密性降低,厚度增加
到约600 nm。F-FTO的表面则呈较均匀的纳米颗粒堆积成的多孔形貌,截面出现
分层,底部为厚度约200 nm的致密层,上部为厚约600 nm的更加疏松的纳米
多孔结构。
SEM分析表明,电化学阴极极化处理后,FTO薄膜的表面由致密转变为多孔,这
是薄膜光电化学性能增强的一个原因。F-FTO的纳米多孔形貌明显提高了薄膜的
光电流密度。实验中也发现,A-FTO是完全无色透明的,C-FTO呈浅乳白色,F-
FTO则呈浅橘黄色。薄膜颜色的变化既改变了薄膜吸收可见光的性质,更利于提
高可见光光电化学性能,也揭示了薄膜的颗粒尺寸、结构和组成发生了相应的变化。
实验结果还表明,在相同的阴极极化条件下,FTO薄膜的形貌变化与溶液中的金
属离子种类(Na+或Fe2+)有关。
2. 2. 2 薄膜的结构
图3为三种样品的XRD谱图。从中可见,A-FTO样品在2θ为26.45°、33.6°、
37.7°、51.6°、54.5°、61.4°和65.5°处有衍射峰,可归属于四方结构SnO2的
(110)、(101)、(200)、(211)、(220)、(310)和(112)晶面的衍射(JCPDS No.88-
0287)。而C-FTO和F-FTO样品中,原来属于四方结构的几个衍射峰的中心位置
向高衍射角偏移,而且有所减弱、宽化。峰中心向高衍射角偏移表明衍射晶面距减
小,而衍射峰变宽则可能由晶粒细化和晶体内应力增大而引起。
更值得注意的是,C-FTO和F-FTO样品的XRD图谱中,在2θ为24.3°、29.7°、
31.4°、34.0°、35.7°、50.0°、53.1°、58.0°处出现新的弱衍射峰,并且在F-FTO
的谱图中更加明显。但这些衍射峰不能归属于Fe2O3或其他铁氧化物的衍射。虽
然不能完全排除存在正交结构SnO的可能性[21],但根据本文实验条件和文献的
研究结果,可以合理地将这些新的衍射峰归属于正交结构SnO2(110)/(111)、
(113)、(020)/(021)、(022)/(114)、(023)、(220)、(132)/(223)和(119)晶面的衍
射(JCPDS No.78-1063)。一般认为,正交结构的SnO2只能在高压下存在,但近
几年来已发现可以在常压下通过各种不同的途径制备出正交结构的SnO2[22-26]。
温和条件下形成正交SnO2的原因与氧化物形成过程中产生的内应力有关,尤其
是当有掺杂元素(如Mn[27])存在时,掺杂元素引起的结构变形更有利于形成正交
结构的SnO2。
笔者课题组[18]曾通过在含Cu2+溶液中阴极沉积后热氧化的方法在FTO基底上
制备Cu2O薄膜,整个过程中都没有发现FTO基底本体有明显的结构或形貌变化。
而本文的结果表明,在含Na+或Fe2+离子的溶液中阴极极化,FTO薄膜的形貌
和结构都发生了变化。这可能是因为,在酸性或中性溶液中,Cu2+、Fe2+、
Na+的标准还原电位分别为0.34、−0.45和−2.71 V,而SnO2无论还原成Sn还
是SnO,其标准还原电位均约为−0.11 V[28],所以在含Cu2+溶液中阴极极化,
Cu2+的还原将是主要的反应,对FTO基底的影响不大。但在含Fe2+或Na+的
溶液中,SnO2的还原将成为主要的反应。文献中也报道了在酸性水溶液中可以将
SnO2阴极还原为金属Sn[29]。溶液中的Fe3+离子也有助于FTO的阴极还原
[30]。在Na2SO3溶液中,−2.1 V(相对于SCE)阴极电势下能将FTO还原[19]。
本文实验中观察到,FTO薄膜经过6.0 mA/cm2阴极极化后薄膜的颜色都变深,
表明FTO薄膜发生了类似的还原反应。Plȧ Cid等[31]在pH = 7.0的Na2SO4溶
液中以0.26 mA/cm2的阴极电流对FTO极化处理2 750 s后,没有发现FTO的
结构和形貌发生变化,可能是由于他们所用的阴极极化电流太低。
经阴极还原的FTO样品在热氧化过程中必然经历SnO中间态[32],而SnO的存
在有利于进一步氧化时形成正交结构的SnO2[33]。如果薄膜中存在Fe元素,Fe
和Sn离子半径的差异将引起SnO2晶格的畸变,晶距收缩且内应力增大[34],从
而驱动正交结构SnO2的形成。因此F-FTO薄膜中形成了更多正交结构的SnO2,
在XRD谱图中呈现出正交SnO2的衍射峰。
研究显示,正交结构SnO2与四方结构SnO2共存能提高SnO2材料的传感性能
[35-37]。因此,经过阴极极化改性之后,FTO薄膜的表面由致密平整变为多孔的
形貌,而且存在正交和四方两种结构的SnO2,加上可能有Fe元素的掺杂效应,
使得薄膜的光电化学性能得到极大的提高。
2. 3 薄膜的XPS分析
为证实在F-FTO薄膜中是否存在Fe元素,对样品进行了XPS分析,结果见图4
和图5。在图4的XPS宽谱中,三种样品没有明显的差别,主要的电子结合能峰
都来自SnO2[38-41],27 eV和122 eV处的电子结合能分别归属于Sn4d和
Sn4s的芯能级电子,487 eV和493 eV归属于Sn3d的芯能级电子,717 eV和
758 eV归属于Sn3p的芯能级电子,1 060 eV左右处则是SnMNN俄歇电子峰;
530 eV处的结合能峰归属于O1s芯能级电子,966 eV和976 eV两处的结合能
归属于OKLL俄歇电子峰。
由图5的各元素精细谱可见,三种样品中的O1s和Sn3d电子结合能峰的峰形和
峰位相同。O1s的结合能分别为529.8 eV和531.5 eV,前者归属于常见的晶格
O−2状态[41],后者则归属于吸附•OH或者水分子等物种[42]。Sn3d的结合能
为485.8 eV和494.2 eV,分别归属于Sn(IV)价态的Sn3d5/2和Sn3d3/2[43-
44]。F1s电子的结合能峰位于985 eV,与文献报道[45]一致,但F-FTO薄膜中
F1s电子的结合能峰显著减小,可能是在FeSO4溶液里阴极极化及热处理过程中,
样品内的F元素有所流失。O、Sn和F的精细XPS谱表明不同FTO样品的主要
成分都是SnO2。
从Fe2p精细谱可见,三种样品都在717 eV处出现归属于Sn3p电子的结合能峰
[46]。但F-FTO薄膜中,在Sn3p电子结合能峰的两侧存在肩峰,表明样品中存
在Fe元素。通过高斯−洛仑兹分峰拟合后,可确定F-FTO中Fe2p的电子结合能
为710.6 eV和724.2 eV,半峰宽超过5 eV。从电子结合能数值可推断在F-FTO
薄膜中Fe以+3价态存在[47]。由于Fe2p的电子能谱峰形较差,因此难以根据元
素的灵敏度因子定量计算Fe的含量。XRF成分分析表明,F-FTO中Fe的含量为
1%(原子分数),证明F-FTO为Fe掺杂的FTO。
已有许多研究显示,在TiO2[48]、WO3[49]、SnO2[7-10]等氧化物半导体材料
中掺杂Fe元素,能改变材料的光学带隙和缺陷密度,有效提高其光催化/光电化
学性能。本文采用在FeSO4溶液中阴极极化后热处理的方式,在普通的FTO导电
玻璃上制备出纳米多孔形貌的Fe掺杂FTO薄膜,显著提高了FTO薄膜在可见光
下的光电流。本文的研究为宽禁带氧化物的掺杂、改性提供了新的途径。通过优化
电化学阴极极化和热处理的条件,可望得到性能更为优异的掺杂FTO光催化材料,
并阐明电化学掺杂改性增强光催化性能的机理。相关研究有待后续系统地展开。
(1) 普通FTO导电玻璃通过在FeSO4溶液中阴极极化后热处理,能够制备出纳米
多孔形貌的Fe掺杂FTO薄膜,它具有良好的可见光光电化学活性。
(2) Fe掺杂FTO薄膜中铁的原子分数为1%,存在正交结构SnO2和四方结构
SnO2两种物相。
感谢厦门大学林敬东和金鹏老师帮助进行样品的XRD测试。
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2024年5月13日发(作者:越璎玑)
电化学Fe掺杂增强FTO薄膜的可见光光电化学性能
肖仕清;郝丽华;谢萌阳;马荣伟;牛振江
【摘 要】通过在FeSO4溶液中将FTO(F掺杂SnO2)导电玻璃电化学阴极极化,随
后在500℃空气中热氧化,制备出对可见光有响应的Fe掺杂FTO薄膜.用扫描电子
显微镜(SEM),X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)表征了薄膜的形貌、结
构和表面特性.在可见光下测试了薄膜在1.0 mol/L NaOH溶液中零偏压下的光电
流-时间曲线.结果显示,电化学修饰后的FTO薄膜表面呈纳米多孔形貌,薄膜中有1%
(原子分数)左右的Fe元素掺杂且存在正交结构SnO2和四方结构SnO2两种物
相.Fe掺杂FTO的光电流密度为0.5 μA/cm2,比无Fe掺杂的FTO薄膜(0.019
μA/cm2)显著增强.%A visible-light-responsive Fe-doped FTO (F-doped
SnO2) thin film was prepared by cathodic polarization of FTO conductive
glass in a FeSO4 solution followed by thermal oxidation in air at 500 ℃.The
morphology,structure and surface composition of the thin film were
characterized by scanning electron microscopy (SEM),X-ray diffraction
(XRD) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).The photocurrent
curve of the thin film was measured in 1.0 mol/L NaOH solution
under visible light and zero results showed that the
electrochemically modified FTO thin film contains about 1.0at% of
Fe,comprises two structural phases of tetragonal and orthorhombic
SnO2,and presents a nanoporous photocurrent density of
the Fe-doped FTO thin film is 0.5 μA/cm2,which is significantly higher than
that of the undoped FTO thin film (0.019 μA/cm2).
【期刊名称】《电镀与涂饰》
【年(卷),期】2017(036)009
【总页数】8页(P455-461,后插1)
【关键词】氟掺杂二氧化锡;铁掺杂;阴极极化;可见光;光电流
【作 者】肖仕清;郝丽华;谢萌阳;马荣伟;牛振江
【作者单位】浙江师范大学物理化学研究所,浙江金华321004;浙江师范大学物理
化学研究所,浙江金华321004;浙江师范大学物理化学研究所,浙江金华321004;浙
江师范大学物理化学研究所,浙江金华321004;浙江师范大学物理化学研究所,浙江
金华321004
【正文语种】中 文
【中图分类】O611.4
从Fujishima等[1]的开创性工作开始,利用太阳能分解水或降解有机污染物,减
少化石燃料的消耗和解决紧迫的环境问题,已成为世界范围的研究热点。开发各种
高性能、低成本的光催化材料,是发展光催化技术的关键之一。
SnO2是n型半导体,在酸碱介质中性质稳定,但由于禁带宽度为3.6 eV,仅能
吸收太阳光谱的紫外部分,且其本征的光催化活性很低。通过金属离子(如Mg[2]、
V[3]、Zn[4-5]、W[4]、Cu[6]和Fe[7-10])的掺杂或与其他氧化物(如Fe2O3[11-
13]、ZnO[14])的复合,可以有效地提高SnO2材料的光催化性能。F掺杂的
SnO2(FTO)薄膜,已被广泛用作液晶显示屏和各种太阳能电池、电致变色材料的
基底,也被用作许多光电催化材料的导电层[15-18]。而经过强阴极极化处理[19-
20],能增强FTO薄膜的光电化学性能,使FTO薄膜能够直接用于光电催化反应。
本文通过在FeSO4溶液中对市售的FTO导电玻璃进行阴极极化,再经热氧化,制
备出具有较好光电化学性能的改性FTO薄膜,并通过结构、形貌和表面特性的分
析表征,讨论了电化学修饰增强FTO薄膜光电化学性能的机理。
1. 1 样品制备
以市售的FTO导电玻璃(深圳华南湘城科技有限公司,表面方阻为13 Ω)为基底,
依次用丙酮、无水乙醇超声清洗20 min,再经超纯水清洗后,放入0.1 mol/L
FeSO4+ 0.1 mol/L (NH4)2SO4电解液中,以Pt片为阳极,恒电流密度6
mA/cm2阴极极化350 s,两电极之间的距离固定为2.0 cm。电化学处理后清洗,
于空气气氛下500 °C恒温加热2 h,得到电化学修饰的FTO薄膜(F-FTO)。在
0.1 mol/L Na2SO4溶液中以相同电流密度阴极极化和相同热处理制备的FTO薄
膜(C-FTO)与直接进行热处理的薄膜(A-FTO)分别作为比较和空白样品。
1. 2 形貌、结构和光学特性表征
通过日本Hitachi S4800扫描电子显微镜(SEM)分析薄膜表面形貌。采用荷兰
PANalytical X’pert PRO X射线衍射仪(XRD)分析薄膜的结构。用英国
Renishaw inVia激光显微拉曼光谱仪进行拉曼光谱检测,激发波长为532 nm。
用美国Thermo Scientific公司的ESCALAB 250Xi型X射线光电子能谱仪(XPS)
分析样品元素的表面组成和化学状态,Al Kα射线(1 486.6 eV),以样品表面污染
碳(C─H或C─C)C1s的结合能284.8 eV为内标校正电子结合能。通过日本岛津
XRF-1800型X−荧光光谱仪(XRF)对样品进行元素定量分析。
1. 3 光电化学性能测试
以FTO薄膜(受光面积1.0 cm2)为工作电极,Pt片为对电极,采用两电极体系,
在1.0 mol/L NaOH溶液中测试样品在零偏压下的光电流−时间( j−t)曲线。实验
时每次光照50 s后闭光50 s为一次循环,同一样品经过5次循环以上的测试。所
用光源为Xe灯(北京纽比特科技有限公司),用紫外截止滤光片ZJB380滤去紫外
光部分,照射到样品表面的光强度为100 mW/cm2。
本文所有电化学实验均在室温下进行,所用仪器为CHI660C电化学工作站(上海辰
华),所用化学试剂均为分析纯,溶液用超纯水配制。
2. 1 薄膜的光电化学性能
图1为经过不同处理的FTO薄膜在零偏压下的j−t曲线。在可见光照射下,未经
过电化学阴极极化处理的FTO薄膜(A-FTO)基本没有产生光电流。而经过在
Na2SO4溶液中阴极极化处理的FTO薄膜(C-FTO)和在含FeSO4溶液中阴极极化
后的FTO薄膜(F-FTO)都产生了较明显的阳极光电流,显示出n型半导体的特性。
可见阴极极化显著增强了FTO的光电流,与文献的报道[19-20]一致。F-FTO的光
电流密度为0.5 μA/cm2,比C-FTO的光电流密度(1.85 × 10−2μA/cm2)大了近
26倍,表明在FeSO4溶液中阴极极化处理更能有效提高FTO薄膜的光电化学性
能。
碱性溶液中零偏压下的光电流测试结果表明,电化学改性和修饰能够显著增强
FTO薄膜在可见光下的光电化学性能。为了探讨电化学改性增强FTO薄膜光电化
学性能的机理,进一步对不同处理的FTO样品进行了形貌、结构和表面特性的分
析。
2. 2 FTO薄膜的形貌和结构
2. 2. 1 薄膜的形貌
图2为不同FTO薄膜的表面和截面形貌。从SEM分析结果可见,A-FTO为不规
则的亚微米颗粒形成的致密薄膜,厚度约为500 nm。C-FTO薄膜表面是由大小
不一的颗粒堆积成的多孔形貌,一些颗粒的尺寸明显增大,致密性降低,厚度增加
到约600 nm。F-FTO的表面则呈较均匀的纳米颗粒堆积成的多孔形貌,截面出现
分层,底部为厚度约200 nm的致密层,上部为厚约600 nm的更加疏松的纳米
多孔结构。
SEM分析表明,电化学阴极极化处理后,FTO薄膜的表面由致密转变为多孔,这
是薄膜光电化学性能增强的一个原因。F-FTO的纳米多孔形貌明显提高了薄膜的
光电流密度。实验中也发现,A-FTO是完全无色透明的,C-FTO呈浅乳白色,F-
FTO则呈浅橘黄色。薄膜颜色的变化既改变了薄膜吸收可见光的性质,更利于提
高可见光光电化学性能,也揭示了薄膜的颗粒尺寸、结构和组成发生了相应的变化。
实验结果还表明,在相同的阴极极化条件下,FTO薄膜的形貌变化与溶液中的金
属离子种类(Na+或Fe2+)有关。
2. 2. 2 薄膜的结构
图3为三种样品的XRD谱图。从中可见,A-FTO样品在2θ为26.45°、33.6°、
37.7°、51.6°、54.5°、61.4°和65.5°处有衍射峰,可归属于四方结构SnO2的
(110)、(101)、(200)、(211)、(220)、(310)和(112)晶面的衍射(JCPDS No.88-
0287)。而C-FTO和F-FTO样品中,原来属于四方结构的几个衍射峰的中心位置
向高衍射角偏移,而且有所减弱、宽化。峰中心向高衍射角偏移表明衍射晶面距减
小,而衍射峰变宽则可能由晶粒细化和晶体内应力增大而引起。
更值得注意的是,C-FTO和F-FTO样品的XRD图谱中,在2θ为24.3°、29.7°、
31.4°、34.0°、35.7°、50.0°、53.1°、58.0°处出现新的弱衍射峰,并且在F-FTO
的谱图中更加明显。但这些衍射峰不能归属于Fe2O3或其他铁氧化物的衍射。虽
然不能完全排除存在正交结构SnO的可能性[21],但根据本文实验条件和文献的
研究结果,可以合理地将这些新的衍射峰归属于正交结构SnO2(110)/(111)、
(113)、(020)/(021)、(022)/(114)、(023)、(220)、(132)/(223)和(119)晶面的衍
射(JCPDS No.78-1063)。一般认为,正交结构的SnO2只能在高压下存在,但近
几年来已发现可以在常压下通过各种不同的途径制备出正交结构的SnO2[22-26]。
温和条件下形成正交SnO2的原因与氧化物形成过程中产生的内应力有关,尤其
是当有掺杂元素(如Mn[27])存在时,掺杂元素引起的结构变形更有利于形成正交
结构的SnO2。
笔者课题组[18]曾通过在含Cu2+溶液中阴极沉积后热氧化的方法在FTO基底上
制备Cu2O薄膜,整个过程中都没有发现FTO基底本体有明显的结构或形貌变化。
而本文的结果表明,在含Na+或Fe2+离子的溶液中阴极极化,FTO薄膜的形貌
和结构都发生了变化。这可能是因为,在酸性或中性溶液中,Cu2+、Fe2+、
Na+的标准还原电位分别为0.34、−0.45和−2.71 V,而SnO2无论还原成Sn还
是SnO,其标准还原电位均约为−0.11 V[28],所以在含Cu2+溶液中阴极极化,
Cu2+的还原将是主要的反应,对FTO基底的影响不大。但在含Fe2+或Na+的
溶液中,SnO2的还原将成为主要的反应。文献中也报道了在酸性水溶液中可以将
SnO2阴极还原为金属Sn[29]。溶液中的Fe3+离子也有助于FTO的阴极还原
[30]。在Na2SO3溶液中,−2.1 V(相对于SCE)阴极电势下能将FTO还原[19]。
本文实验中观察到,FTO薄膜经过6.0 mA/cm2阴极极化后薄膜的颜色都变深,
表明FTO薄膜发生了类似的还原反应。Plȧ Cid等[31]在pH = 7.0的Na2SO4溶
液中以0.26 mA/cm2的阴极电流对FTO极化处理2 750 s后,没有发现FTO的
结构和形貌发生变化,可能是由于他们所用的阴极极化电流太低。
经阴极还原的FTO样品在热氧化过程中必然经历SnO中间态[32],而SnO的存
在有利于进一步氧化时形成正交结构的SnO2[33]。如果薄膜中存在Fe元素,Fe
和Sn离子半径的差异将引起SnO2晶格的畸变,晶距收缩且内应力增大[34],从
而驱动正交结构SnO2的形成。因此F-FTO薄膜中形成了更多正交结构的SnO2,
在XRD谱图中呈现出正交SnO2的衍射峰。
研究显示,正交结构SnO2与四方结构SnO2共存能提高SnO2材料的传感性能
[35-37]。因此,经过阴极极化改性之后,FTO薄膜的表面由致密平整变为多孔的
形貌,而且存在正交和四方两种结构的SnO2,加上可能有Fe元素的掺杂效应,
使得薄膜的光电化学性能得到极大的提高。
2. 3 薄膜的XPS分析
为证实在F-FTO薄膜中是否存在Fe元素,对样品进行了XPS分析,结果见图4
和图5。在图4的XPS宽谱中,三种样品没有明显的差别,主要的电子结合能峰
都来自SnO2[38-41],27 eV和122 eV处的电子结合能分别归属于Sn4d和
Sn4s的芯能级电子,487 eV和493 eV归属于Sn3d的芯能级电子,717 eV和
758 eV归属于Sn3p的芯能级电子,1 060 eV左右处则是SnMNN俄歇电子峰;
530 eV处的结合能峰归属于O1s芯能级电子,966 eV和976 eV两处的结合能
归属于OKLL俄歇电子峰。
由图5的各元素精细谱可见,三种样品中的O1s和Sn3d电子结合能峰的峰形和
峰位相同。O1s的结合能分别为529.8 eV和531.5 eV,前者归属于常见的晶格
O−2状态[41],后者则归属于吸附•OH或者水分子等物种[42]。Sn3d的结合能
为485.8 eV和494.2 eV,分别归属于Sn(IV)价态的Sn3d5/2和Sn3d3/2[43-
44]。F1s电子的结合能峰位于985 eV,与文献报道[45]一致,但F-FTO薄膜中
F1s电子的结合能峰显著减小,可能是在FeSO4溶液里阴极极化及热处理过程中,
样品内的F元素有所流失。O、Sn和F的精细XPS谱表明不同FTO样品的主要
成分都是SnO2。
从Fe2p精细谱可见,三种样品都在717 eV处出现归属于Sn3p电子的结合能峰
[46]。但F-FTO薄膜中,在Sn3p电子结合能峰的两侧存在肩峰,表明样品中存
在Fe元素。通过高斯−洛仑兹分峰拟合后,可确定F-FTO中Fe2p的电子结合能
为710.6 eV和724.2 eV,半峰宽超过5 eV。从电子结合能数值可推断在F-FTO
薄膜中Fe以+3价态存在[47]。由于Fe2p的电子能谱峰形较差,因此难以根据元
素的灵敏度因子定量计算Fe的含量。XRF成分分析表明,F-FTO中Fe的含量为
1%(原子分数),证明F-FTO为Fe掺杂的FTO。
已有许多研究显示,在TiO2[48]、WO3[49]、SnO2[7-10]等氧化物半导体材料
中掺杂Fe元素,能改变材料的光学带隙和缺陷密度,有效提高其光催化/光电化
学性能。本文采用在FeSO4溶液中阴极极化后热处理的方式,在普通的FTO导电
玻璃上制备出纳米多孔形貌的Fe掺杂FTO薄膜,显著提高了FTO薄膜在可见光
下的光电流。本文的研究为宽禁带氧化物的掺杂、改性提供了新的途径。通过优化
电化学阴极极化和热处理的条件,可望得到性能更为优异的掺杂FTO光催化材料,
并阐明电化学掺杂改性增强光催化性能的机理。相关研究有待后续系统地展开。
(1) 普通FTO导电玻璃通过在FeSO4溶液中阴极极化后热处理,能够制备出纳米
多孔形貌的Fe掺杂FTO薄膜,它具有良好的可见光光电化学活性。
(2) Fe掺杂FTO薄膜中铁的原子分数为1%,存在正交结构SnO2和四方结构
SnO2两种物相。
感谢厦门大学林敬东和金鹏老师帮助进行样品的XRD测试。
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