2024年10月8日发(作者：霜含玉)
维普资讯
电子产品可靠性与环境试验
检测或校准的正确性和可靠性的因素评定
——
谈谈如何实施ＩＳＯ／ＩＥＣ １７０２５“５．１总则”要素
刘春浩
（信息产业部电子第五研究所，广东广州５１０６１０）
摘要：说明如何评定影响检测或校准的正确性和可靠性因素的测量不确定度，提出如何用统计方法定
性确定其中的主要因素。
关键词：可靠性；测量不确定度；实验标准差；排列图
中图分类号：ＴＭ ９３０．１ｌ３ 文献标识码：Ａ
Ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ ｏｆ Ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ ｏｒ Ｃａｌｉｂｒａｔｉｏｎ
Ｃｏｒｒｅｃｔｎｅｓｓ ａｎｄ Ｒｅｌｉａｂｉｌｉｔｙ Ｆａｃｔｏｒ
ＬＩＵ Ｃｈｕｎ—ｈａｏ
（ＣＥＰＲＥＩ，Ｇｕａｎｇｚｈｏｕ ５１０６１０，Ｃｈｉｎａ）
Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｔｈｅ ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ ｕｎｃｅｒｔａｉｎｔｙ ｗｈｉｃｈ ｉｍｐａｃｔｓ ｏｎ ｔｈｅ ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ ｏｒ
ｃａｌｉｂｒａｔｉｏｎ ｃｏｒｒｅｃｔｎｅｓｓ ａｎｄ ｒｅｌｉａｂｉｌｉｔｙ ｆａｃｔｏｒｓ ｗａｓ ｐｒｅｓｅｎｔｅｄ．Ｔｈｅ ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ ｏｆ ｓｔａｔｉｓｔｉｃ ｍｅｔｈｏｄ ｔｏ
ｄｅｔｅｒｍｉｎｅ ｔｈｅ ｍａｉｎ ｆａｃｔｏｒ ｗａｓ ｄｉｓｃｕｓｓｅｄ．
Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ｒｅｌｉａｂｉｌｉｔｙ；ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ ｕｎｃｅｒｔａｉｎｔｙ；ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔａｌ ｓｔａｎｄａｒｄ ｄｅｒｉａｔｉｏｎ
１引言
ＩＳＯ／ＩＥＣ １７０２５：１９９９《检测和校准实验室能
力的通用要求》标准中的“５．１总则”是一个较为
奇特的要素，决定检测或校准的正确性和可靠性的
７个因素在标准的后面条款皆有叙述，但在这里，
把它们作为一个要素汇总列出，并要求实验室在制
检测或校准的专业实验室或生产企业的质量检测部
门参考。
２确定影响测量不确定度的分量
检测或校准的正确性和可靠性，是指工作条件
处于控制状态下进行的检测或校准的正确性和可靠
定检测和校准的方法和程序等活动时要考虑这些因
素对总的测量不确定度的影响（见附录）。从质量
的保证和控制的角度看，这是个非常重要的要素，
实验室应在质量体系文件中给予充分体现并实施。
下面谈谈关于如何实施该要素的个人看法，供从事
收稿日期：２００２—０６—２６
性，衡量它们的指标是测量的不确定度。实施
“５．１总则”，首先是要将影响测量不确定度的分
量（称来源分量）找出来。实验室根据日常的检测
或校准活动、质量监督与控制活动以及过去的经验
和确认的数据等寻找来源分量。来源分量应尽可能
全面地找出来，尤其不能漏掉当前较主要的分量。
作者简介：刘春浩（１９６４一），男，广东陆丰人，信息产业部电子第五研究所、中国赛宝实验室总裁办公室工程师．主要
从事质量管理工作。
ＤＩＡＮＺｌＯＨＡＮＰＩＮＫＥＫＡＯＸＩＮ￣Ｙｕ Ｈ ｌ帐ｌ ＳＨＩＹＡ￣
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电子产品可靠性与环境试验 ２００２侄
不同的实验室各来源分量对总的测量不确定的影响
是不同的，通常情况下至少包括８个方面：人、机
（设备）、料（消耗材料）、法（方法及其确
认）、环（环境设施）、测（测量溯源性）、抽样
（代表性不够）和样品处置等。
控制图的３盯方式进行控制）采集的。
示例１：
某设备对某个电阻的阻值在同一条件下进行了
＝
１０次测量，得到如下１０个测量值，如表１所示。
Ｅ
利用贝塞尔公式可算出该设备的不确定度：
∞
标准不确定度Ｓ＝３．９×１０ １－／；
●
３逐项评定标准不确定度分量
测量不确定度是经典的误差理论发展和完善的
产物，是定量说明测量结果的一个参数。它不是误
对应的相对不确定度为：１．３×１０～。
”∑ｌｌ
一
表１ 某电阻测量值 ｍ１２
差，不是说明测量结果是否接近真值，而是表征处
于统计控制状态下进行测量的结果的分散性。这种
分散性可以用方差或标准差表示。
对一个被测量进行无穷次数的测量时，得到的
序号 测量值
３０．０ｌ４
３０．０６０
２９．９９０
２９．９９４
观测值的分散性用方差盯 来计量：
ｎ
［ ］
ｌ ２ ３ ４ ５ ６ ７ ８ ９
３０．０３４
２９．９９２
３０．００６
３０．０３４
３０．０９８
式中 ——第ｉ次测量的结果；
Ｅｆ ）——数学期望，即无穷次数测量的观测
值的算术平均值或加权平均值。
（２）
３０．０８８
方差 的正平方根，即是标准差 。 是
理论上存在的值，实际上进行的是有限次数的ｎ
４用排列图找主因
总测量不确定度（标准不确定度）不是各来源
分量的标准不确定度的算术和，它与输入量问常常
是一个很复杂的函数关系。但明显的是，在彼此不
相关的情况下，来源分量的标准不确定度大的，对
次测量，这时表征观测值分散性可以按贝塞尔公式
计算：
Ｓ＝ （３）
总测量不确定度的贡献就大。因此在测量条件及过
式中 ——所进行的ｎ次测量的算术平均值。
由上式算得的 称为实验标准差，是 的估
计值。
使用针对某来源分量进行的相关测量的数据，
程受控情况下进行的标准不确定度评定活动中，可
使用排列图（Ｐａｒｅｔｏ图）的“ＡＢＣ法”来定性寻找
影响总测量不确定度的主要分量。
把来源分量的标准不确定度对应的相对不确定
通过贝塞尔公式计算出ｓ，即是该分量的标准不确
定度。各来源分量计算出来后，就可以判断该分量
对总的测量不确定度的贡献。
度 ／ （Ｅ：ｎ次测量平均值 累加，累加值以
表示，排列图左纵坐标是来源分量的 ／ 值，右
坐标是各分量的ｓ／ＥＭ（百分比），横坐标按标准
不确定度的大小从左到右排列着各分量，如图１所
不。
计算标准不确定度的数据可以是来自于日常的
检测或校准、质量监督或核查等活动获得的、经整
理得到的数据。为了使数据具有系统性，常常需要
进行有针对性的测量（实验）。要注意的是，应确
从图１中可以看出，Ａ类的累计频率为０～８０％；
类的累计频率为８０％～９０％；Ｃ类的累计频率
为９０％～１００％。Ａ类是主要的，其对应的分量
保数据是在工作过程维持在控制的状态下（可采用
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第５期 刘春浩：检测或校准的正确性和可靠性的因素评定
ｓ／Ｅ
ｓ／ＥＭ
ｌ ０
Ｏ ８
０ ５
图１ 分量测量不确定度排列图（示意图） 图２ 分量的测量不确定度排列图（实际值）
是影响总测量不确定度的主要分量，是实验室在制
定和执行工作程序时应主要考虑的分量。
示例２：
５结束语
总测量不确定度通常由测量过程的数学模型和
不确定度的传播定律来评价。
被测量ｌ，常取决于其它量Ｘｉ（ｉ＝１，２，…，
ｎ），由 的最佳值可得ｌ，的最佳值Ｙ。
某工厂质量检验部门在工作条件处于控制状态
及采取了某些手段使各分量尽可能不相关的情况
下，进行了有关的测量，经计算得到各分量的标准
不确定度ｓ及其相对不确定度ｓ／Ｅ和ｓ／ＥＭ，如
表２所示。
Ｙ：ｆ ｆ ｌ，Ｘ２，… Ｊ （４）
Ｙ的不确定度来源为 ｔ，靓，… ，即Ｙ的标
表２ 分量的测量不测定度
分量 Ｓ（Ｘ １０。） ／Ｅ（Ｘ １０。） ／ＥＭ
准不确定来源“ ｒ 决定于 的标准不确定度“
ｒ ｔ Ｊ，“ ｒＸ２Ｊ，…“ ｒ Ｊ，且口
Ｕ （Ｙ）：（Ｕｃｆ －），Ｕ （Ｘ２），…Ｕ （ ））（５）
计算合成标准不确定度，有这样被称为不确定
度传递率的公式：
“ － ．
享。ｃ ２ “ ｃ ＋２ ｎ －Ｉ，妻。
，（ ） （ ）］告
一
互
Ｏ／Ｘｉ． ０
（６）
式中
，
厂．一输入量；
｝一偏导数，称为灵敏系数；
—— 的相关系数；
据此，对应的排列如图２所示。
由图２可知， “人”、 “机” （即测量仪器的
ｒｒ
分辨率、测量方法的近似性）是影响测量不确定度
的分量，该工厂质量检验部门应酌情对这两项采取
有关的改进措施。
ｒ（％ｉ， ）ｕ（％ｉ）ｕ（％｜）——ｘｔ，ｘｉ电 ｊｉ
差；
ｉ≠Ｊ。
当各输入量之问不相关，且灵敏系数的绝对值
为１时，
４１
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电子产品可靠性与环境试验 ２００２正
（７）
般情况下，实验室可以采取适当的措施，做
抽样（５．７）；
——检测和校准物品的处置（５．８）。
——
５．１．２上述因素对总的测量不确定度的影响，在
一
到使各输入来源分量尽量不相关。可见，以上所述
（各类）检测之间和（各类）校准之间明显不同。
实验室在制订检测和校准的方法和程序、培训和考
核人员、选择和校准所用设备时，应考虑到这些因
素。
的用排列图对各分量、对总测量不确定度影响的定
性评定方法是可行的。
附：
５．１总则
５．１．１决定实验室检测和／或校准的正确性和可靠
性的因素有很多，包括：
——
参考文献：
【１】李晓春，曾瑶．质量管理学【Ｍ】．北京：北京邮电大学
出版社，２００２．
人员（５．２）；
【２】许金钊，席宏卓．产品质量控制【Ｍ】．北京：机械工业
出版社，１９９４．
——
设施和环境条件（５．３）；
检测和校准方法及方法的确认（５．４）；
——
【３】周纪芗，茆诗松．质量管理统计方法【Ｍ】．北京：中国
统计出版社，１９９９．
【４】ＪＪＦ １０５９—１９９９，测量不确定度评定与表示【Ｓ】．
——
设备（５．５）；
测量溯源性（５．６）；
——
日本东芝公司改良组合畸变
Ｓｉ和ＳＯｌ的工艺技术
日本东芝公司最近开发了一种改良组合畸变Ｓｉ和ＳＯＩ的工艺技术，即，采用在Ｓｉ膜的晶格点
阵中加大其畸变系数而提高载流子迁延率的“畸变ｓｉ”技术，由此形成ＳｉＧｅ膜的工艺技术。据
称，该技术将在已把畸变Ｓｉ实用化的ＳＯＩ基板中使用，即在ＳＯＩ基板上形成ＳｉＧｅ膜。
东芝公司开发的这种被称为“氧化浓缩法”的技术，可以把ＳｉＧｅ膜的Ｇｅ浓度提高５７％。一
旦提高Ｇｅ浓度，Ｓｉ膜的畸变就会加大，从而提高载流子的迁延率。在以往使用的ＳＩＭＯＸ
（ｓｅｐａｒａｔｉｏｎ ｂｙ ｉｍｐｌａｎｔｅｄ ｏｘｙｇｅｎ）法中，由于高温的缘故必须退火，因此，Ｇｅ浓度只能达到ｌ５％左
右。与ＩＢＭ公司使用的胶接法相比，这个新技术的特点是可以减轻ＳｉＧｅ膜的表面粗糙度。由此可
以防止如下失效现象：因表面凹凸的影响而降低晶体管的可靠性；因载流子在界面上散乱而降低
迁延率。
“氧化浓缩法”的原理是：首先，在ＳＯＩ基板上形成６０ ｎｍ、Ｇｅ浓度为ｌ０％的ＳｉＧｅ膜；其
次，ＳｉＧｅ膜一旦受到氧化，ＳｉＧｅ层中的Ｇｅ就会扩散到Ｓｉ膜中。由于Ｇｅ在ＳｉＯ２膜中很难扩散而
闭锁在Ｓｉ膜中，从而可以形成Ｇｅ浓度很高的ＳｉＧｅ膜。
（本刊讯）
2024年10月8日发(作者：霜含玉)
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电子产品可靠性与环境试验
检测或校准的正确性和可靠性的因素评定
——
谈谈如何实施ＩＳＯ／ＩＥＣ １７０２５“５．１总则”要素
刘春浩
（信息产业部电子第五研究所，广东广州５１０６１０）
摘要：说明如何评定影响检测或校准的正确性和可靠性因素的测量不确定度，提出如何用统计方法定
性确定其中的主要因素。
关键词：可靠性；测量不确定度；实验标准差；排列图
中图分类号：ＴＭ ９３０．１ｌ３ 文献标识码：Ａ
Ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ ｏｆ Ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ ｏｒ Ｃａｌｉｂｒａｔｉｏｎ
Ｃｏｒｒｅｃｔｎｅｓｓ ａｎｄ Ｒｅｌｉａｂｉｌｉｔｙ Ｆａｃｔｏｒ
ＬＩＵ Ｃｈｕｎ—ｈａｏ
（ＣＥＰＲＥＩ，Ｇｕａｎｇｚｈｏｕ ５１０６１０，Ｃｈｉｎａ）
Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｔｈｅ ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ ｕｎｃｅｒｔａｉｎｔｙ ｗｈｉｃｈ ｉｍｐａｃｔｓ ｏｎ ｔｈｅ ｉｎｓｐｅｃｔｉｏｎ ｏｒ
ｃａｌｉｂｒａｔｉｏｎ ｃｏｒｒｅｃｔｎｅｓｓ ａｎｄ ｒｅｌｉａｂｉｌｉｔｙ ｆａｃｔｏｒｓ ｗａｓ ｐｒｅｓｅｎｔｅｄ．Ｔｈｅ ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ ｏｆ ｓｔａｔｉｓｔｉｃ ｍｅｔｈｏｄ ｔｏ
ｄｅｔｅｒｍｉｎｅ ｔｈｅ ｍａｉｎ ｆａｃｔｏｒ ｗａｓ ｄｉｓｃｕｓｓｅｄ．
Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ｒｅｌｉａｂｉｌｉｔｙ；ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ ｕｎｃｅｒｔａｉｎｔｙ；ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔａｌ ｓｔａｎｄａｒｄ ｄｅｒｉａｔｉｏｎ
１引言
ＩＳＯ／ＩＥＣ １７０２５：１９９９《检测和校准实验室能
力的通用要求》标准中的“５．１总则”是一个较为
奇特的要素，决定检测或校准的正确性和可靠性的
７个因素在标准的后面条款皆有叙述，但在这里，
把它们作为一个要素汇总列出，并要求实验室在制
检测或校准的专业实验室或生产企业的质量检测部
门参考。
２确定影响测量不确定度的分量
检测或校准的正确性和可靠性，是指工作条件
处于控制状态下进行的检测或校准的正确性和可靠
定检测和校准的方法和程序等活动时要考虑这些因
素对总的测量不确定度的影响（见附录）。从质量
的保证和控制的角度看，这是个非常重要的要素，
实验室应在质量体系文件中给予充分体现并实施。
下面谈谈关于如何实施该要素的个人看法，供从事
收稿日期：２００２—０６—２６
性，衡量它们的指标是测量的不确定度。实施
“５．１总则”，首先是要将影响测量不确定度的分
量（称来源分量）找出来。实验室根据日常的检测
或校准活动、质量监督与控制活动以及过去的经验
和确认的数据等寻找来源分量。来源分量应尽可能
全面地找出来，尤其不能漏掉当前较主要的分量。
作者简介：刘春浩（１９６４一），男，广东陆丰人，信息产业部电子第五研究所、中国赛宝实验室总裁办公室工程师．主要
从事质量管理工作。
ＤＩＡＮＺｌＯＨＡＮＰＩＮＫＥＫＡＯＸＩＮ￣Ｙｕ Ｈ ｌ帐ｌ ＳＨＩＹＡ￣
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电子产品可靠性与环境试验 ２００２侄
不同的实验室各来源分量对总的测量不确定的影响
是不同的，通常情况下至少包括８个方面：人、机
（设备）、料（消耗材料）、法（方法及其确
认）、环（环境设施）、测（测量溯源性）、抽样
（代表性不够）和样品处置等。
控制图的３盯方式进行控制）采集的。
示例１：
某设备对某个电阻的阻值在同一条件下进行了
＝
１０次测量，得到如下１０个测量值，如表１所示。
Ｅ
利用贝塞尔公式可算出该设备的不确定度：
∞
标准不确定度Ｓ＝３．９×１０ １－／；
●
３逐项评定标准不确定度分量
测量不确定度是经典的误差理论发展和完善的
产物，是定量说明测量结果的一个参数。它不是误
对应的相对不确定度为：１．３×１０～。
”∑ｌｌ
一
表１ 某电阻测量值 ｍ１２
差，不是说明测量结果是否接近真值，而是表征处
于统计控制状态下进行测量的结果的分散性。这种
分散性可以用方差或标准差表示。
对一个被测量进行无穷次数的测量时，得到的
序号 测量值
３０．０ｌ４
３０．０６０
２９．９９０
２９．９９４
观测值的分散性用方差盯 来计量：
ｎ
［ ］
ｌ ２ ３ ４ ５ ６ ７ ８ ９
３０．０３４
２９．９９２
３０．００６
３０．０３４
３０．０９８
式中 ——第ｉ次测量的结果；
Ｅｆ ）——数学期望，即无穷次数测量的观测
值的算术平均值或加权平均值。
（２）
３０．０８８
方差 的正平方根，即是标准差 。 是
理论上存在的值，实际上进行的是有限次数的ｎ
４用排列图找主因
总测量不确定度（标准不确定度）不是各来源
分量的标准不确定度的算术和，它与输入量问常常
是一个很复杂的函数关系。但明显的是，在彼此不
相关的情况下，来源分量的标准不确定度大的，对
次测量，这时表征观测值分散性可以按贝塞尔公式
计算：
Ｓ＝ （３）
总测量不确定度的贡献就大。因此在测量条件及过
式中 ——所进行的ｎ次测量的算术平均值。
由上式算得的 称为实验标准差，是 的估
计值。
使用针对某来源分量进行的相关测量的数据，
程受控情况下进行的标准不确定度评定活动中，可
使用排列图（Ｐａｒｅｔｏ图）的“ＡＢＣ法”来定性寻找
影响总测量不确定度的主要分量。
把来源分量的标准不确定度对应的相对不确定
通过贝塞尔公式计算出ｓ，即是该分量的标准不确
定度。各来源分量计算出来后，就可以判断该分量
对总的测量不确定度的贡献。
度 ／ （Ｅ：ｎ次测量平均值 累加，累加值以
表示，排列图左纵坐标是来源分量的 ／ 值，右
坐标是各分量的ｓ／ＥＭ（百分比），横坐标按标准
不确定度的大小从左到右排列着各分量，如图１所
不。
计算标准不确定度的数据可以是来自于日常的
检测或校准、质量监督或核查等活动获得的、经整
理得到的数据。为了使数据具有系统性，常常需要
进行有针对性的测量（实验）。要注意的是，应确
从图１中可以看出，Ａ类的累计频率为０～８０％；
类的累计频率为８０％～９０％；Ｃ类的累计频率
为９０％～１００％。Ａ类是主要的，其对应的分量
保数据是在工作过程维持在控制的状态下（可采用
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第５期 刘春浩：检测或校准的正确性和可靠性的因素评定
ｓ／Ｅ
ｓ／ＥＭ
ｌ ０
Ｏ ８
０ ５
图１ 分量测量不确定度排列图（示意图） 图２ 分量的测量不确定度排列图（实际值）
是影响总测量不确定度的主要分量，是实验室在制
定和执行工作程序时应主要考虑的分量。
示例２：
５结束语
总测量不确定度通常由测量过程的数学模型和
不确定度的传播定律来评价。
被测量ｌ，常取决于其它量Ｘｉ（ｉ＝１，２，…，
ｎ），由 的最佳值可得ｌ，的最佳值Ｙ。
某工厂质量检验部门在工作条件处于控制状态
及采取了某些手段使各分量尽可能不相关的情况
下，进行了有关的测量，经计算得到各分量的标准
不确定度ｓ及其相对不确定度ｓ／Ｅ和ｓ／ＥＭ，如
表２所示。
Ｙ：ｆ ｆ ｌ，Ｘ２，… Ｊ （４）
Ｙ的不确定度来源为 ｔ，靓，… ，即Ｙ的标
表２ 分量的测量不测定度
分量 Ｓ（Ｘ １０。） ／Ｅ（Ｘ １０。） ／ＥＭ
准不确定来源“ ｒ 决定于 的标准不确定度“
ｒ ｔ Ｊ，“ ｒＸ２Ｊ，…“ ｒ Ｊ，且口
Ｕ （Ｙ）：（Ｕｃｆ －），Ｕ （Ｘ２），…Ｕ （ ））（５）
计算合成标准不确定度，有这样被称为不确定
度传递率的公式：
“ － ．
享。ｃ ２ “ ｃ ＋２ ｎ －Ｉ，妻。
，（ ） （ ）］告
一
互
Ｏ／Ｘｉ． ０
（６）
式中
，
厂．一输入量；
｝一偏导数，称为灵敏系数；
—— 的相关系数；
据此，对应的排列如图２所示。
由图２可知， “人”、 “机” （即测量仪器的
ｒｒ
分辨率、测量方法的近似性）是影响测量不确定度
的分量，该工厂质量检验部门应酌情对这两项采取
有关的改进措施。
ｒ（％ｉ， ）ｕ（％ｉ）ｕ（％｜）——ｘｔ，ｘｉ电 ｊｉ
差；
ｉ≠Ｊ。
当各输入量之问不相关，且灵敏系数的绝对值
为１时，
４１
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（７）
般情况下，实验室可以采取适当的措施，做
抽样（５．７）；
——检测和校准物品的处置（５．８）。
——
５．１．２上述因素对总的测量不确定度的影响，在
一
到使各输入来源分量尽量不相关。可见，以上所述
（各类）检测之间和（各类）校准之间明显不同。
实验室在制订检测和校准的方法和程序、培训和考
核人员、选择和校准所用设备时，应考虑到这些因
素。
的用排列图对各分量、对总测量不确定度影响的定
性评定方法是可行的。
附：
５．１总则
５．１．１决定实验室检测和／或校准的正确性和可靠
性的因素有很多，包括：
——
参考文献：
【１】李晓春，曾瑶．质量管理学【Ｍ】．北京：北京邮电大学
出版社，２００２．
人员（５．２）；
【２】许金钊，席宏卓．产品质量控制【Ｍ】．北京：机械工业
出版社，１９９４．
——
设施和环境条件（５．３）；
检测和校准方法及方法的确认（５．４）；
——
【３】周纪芗，茆诗松．质量管理统计方法【Ｍ】．北京：中国
统计出版社，１９９９．
【４】ＪＪＦ １０５９—１９９９，测量不确定度评定与表示【Ｓ】．
——
设备（５．５）；
测量溯源性（５．６）；
——
日本东芝公司改良组合畸变
Ｓｉ和ＳＯｌ的工艺技术
日本东芝公司最近开发了一种改良组合畸变Ｓｉ和ＳＯＩ的工艺技术，即，采用在Ｓｉ膜的晶格点
阵中加大其畸变系数而提高载流子迁延率的“畸变ｓｉ”技术，由此形成ＳｉＧｅ膜的工艺技术。据
称，该技术将在已把畸变Ｓｉ实用化的ＳＯＩ基板中使用，即在ＳＯＩ基板上形成ＳｉＧｅ膜。
东芝公司开发的这种被称为“氧化浓缩法”的技术，可以把ＳｉＧｅ膜的Ｇｅ浓度提高５７％。一
旦提高Ｇｅ浓度，Ｓｉ膜的畸变就会加大，从而提高载流子的迁延率。在以往使用的ＳＩＭＯＸ
（ｓｅｐａｒａｔｉｏｎ ｂｙ ｉｍｐｌａｎｔｅｄ ｏｘｙｇｅｎ）法中，由于高温的缘故必须退火，因此，Ｇｅ浓度只能达到ｌ５％左
右。与ＩＢＭ公司使用的胶接法相比，这个新技术的特点是可以减轻ＳｉＧｅ膜的表面粗糙度。由此可
以防止如下失效现象：因表面凹凸的影响而降低晶体管的可靠性；因载流子在界面上散乱而降低
迁延率。
“氧化浓缩法”的原理是：首先，在ＳＯＩ基板上形成６０ ｎｍ、Ｇｅ浓度为ｌ０％的ＳｉＧｅ膜；其
次，ＳｉＧｅ膜一旦受到氧化，ＳｉＧｅ层中的Ｇｅ就会扩散到Ｓｉ膜中。由于Ｇｅ在ＳｉＯ２膜中很难扩散而
闭锁在Ｓｉ膜中，从而可以形成Ｇｅ浓度很高的ＳｉＧｅ膜。
（本刊讯）