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SiO2含量测定

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2024年6月13日发(作者:佘悠)

 烧失量的测定

(1)原理:试样在1025±25℃的马弗炉中灼烧,驱除水分和二氧化碳,同时将存在的易氧

化元素氧化。

(2)仪器设备 :

①马弗炉。

②瓷坩埚。

(3)步骤:

称取试样1g,精确至0.0001g,置于已灼烧恒重的坩埚中,将盖斜置于坩埚上,放于高温炉

中,从低温逐渐升温至1025±25℃,灼烧1h,取出坩埚于干燥器中,冷却至室温称重,再灼

烧15min,称量,反复操作直至恒重。

(4)结果表述:

烧失量的质量分数按下式计算。

式中 ωLOI——烧失量的质量分数,%;

m样——试样的质量,g;

m1——灼烧后试样的质量,g。

所得结果应表示至两位小数。

(5)允许差

含量范围 允许差(%)

≤1.00 0.05

1.01~5.00 0.10

>5.00 0.15

(6)讨论:

①骤加高温会引起试样中烧失量急速挥发,造成试样的飞溅损失,使分析结果有误差;

②灼烧后试样吸水性很强,所以冷却时间必须固定,称量迅速,以免吸收空气中的水分使结

果偏低。

 二氧化硅的测定

(1) 原理:硅的测定可利用重量法。将试样与固体氯化铵混匀后,再加盐酸分解,其中

的硅成硅酸盐凝胶沉淀下来,经过滤、洗涤,在瓷坩埚中于950℃灼烧至恒重,称

量求其质量,得到二氧化硅含量。本法测定结果约较标准法高0.2%左右。若改用铂

坩埚在1100℃灼烧恒重、经氢氟酸处理后,测定结果与标准法结果误差小于0.1% 。

(2) 仪器试剂:马弗炉、瓷坩埚、干燥器和坩埚钳; NH4Cl(固),HCl(浓,6 mol·dm,

-3-3

2 mol·dm),HNO3(浓),AgNO3(0.1 mol·dm)。

(3) 步骤:

准确称取0.4g试样,置于50cm烧杯中,加入2.5~3g固体NH4Cl,用玻璃棒混匀,滴加浓

3

HCl至试样全部润湿(一般约需2cm),并滴加浓HNO3 2~3滴,搅匀。盖上表面皿,置于沸

3

水浴上,加热1min,加热水约40cm,搅动,以溶解可溶性盐类。过滤,用热水洗涤烧杯和

沉淀,直至滤液中无Cl-离子为止。(用AgNO3检验),弃去滤液。

将沉淀连同滤纸放入已恒重的瓷坩埚中,低温干燥、炭化并灰化后,于1000℃灼烧30 min

取下,置于干燥器中冷却至室温,称重。再灼烧,直至恒重。计算试样中SiO

2

的含量。

(4) 结果表述:

二氧化硅含量(%)=(m

2

-m

1

)/m

式中:m1 ——恒重坩埚质量,g;

m2 ——灼烧后坩埚与试样质量,g;

m ——试料质量,g。

所得结果应表示至二位小数。

(5) 允许差:

3

-3

含量范围 允许差(%)

≤60 0.30

2024年6月13日发(作者:佘悠)

 烧失量的测定

(1)原理:试样在1025±25℃的马弗炉中灼烧,驱除水分和二氧化碳,同时将存在的易氧

化元素氧化。

(2)仪器设备 :

①马弗炉。

②瓷坩埚。

(3)步骤:

称取试样1g,精确至0.0001g,置于已灼烧恒重的坩埚中,将盖斜置于坩埚上,放于高温炉

中,从低温逐渐升温至1025±25℃,灼烧1h,取出坩埚于干燥器中,冷却至室温称重,再灼

烧15min,称量,反复操作直至恒重。

(4)结果表述:

烧失量的质量分数按下式计算。

式中 ωLOI——烧失量的质量分数,%;

m样——试样的质量,g;

m1——灼烧后试样的质量,g。

所得结果应表示至两位小数。

(5)允许差

含量范围 允许差(%)

≤1.00 0.05

1.01~5.00 0.10

>5.00 0.15

(6)讨论:

①骤加高温会引起试样中烧失量急速挥发,造成试样的飞溅损失,使分析结果有误差;

②灼烧后试样吸水性很强,所以冷却时间必须固定,称量迅速,以免吸收空气中的水分使结

果偏低。

 二氧化硅的测定

(1) 原理:硅的测定可利用重量法。将试样与固体氯化铵混匀后,再加盐酸分解,其中

的硅成硅酸盐凝胶沉淀下来,经过滤、洗涤,在瓷坩埚中于950℃灼烧至恒重,称

量求其质量,得到二氧化硅含量。本法测定结果约较标准法高0.2%左右。若改用铂

坩埚在1100℃灼烧恒重、经氢氟酸处理后,测定结果与标准法结果误差小于0.1% 。

(2) 仪器试剂:马弗炉、瓷坩埚、干燥器和坩埚钳; NH4Cl(固),HCl(浓,6 mol·dm,

-3-3

2 mol·dm),HNO3(浓),AgNO3(0.1 mol·dm)。

(3) 步骤:

准确称取0.4g试样,置于50cm烧杯中,加入2.5~3g固体NH4Cl,用玻璃棒混匀,滴加浓

3

HCl至试样全部润湿(一般约需2cm),并滴加浓HNO3 2~3滴,搅匀。盖上表面皿,置于沸

3

水浴上,加热1min,加热水约40cm,搅动,以溶解可溶性盐类。过滤,用热水洗涤烧杯和

沉淀,直至滤液中无Cl-离子为止。(用AgNO3检验),弃去滤液。

将沉淀连同滤纸放入已恒重的瓷坩埚中,低温干燥、炭化并灰化后,于1000℃灼烧30 min

取下,置于干燥器中冷却至室温,称重。再灼烧,直至恒重。计算试样中SiO

2

的含量。

(4) 结果表述:

二氧化硅含量(%)=(m

2

-m

1

)/m

式中:m1 ——恒重坩埚质量,g;

m2 ——灼烧后坩埚与试样质量,g;

m ——试料质量,g。

所得结果应表示至二位小数。

(5) 允许差:

3

-3

含量范围 允许差(%)

≤60 0.30

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